等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)

簡要描述：PLUTO-MH等離子清洗機，等離子表面處理系統(tǒng)（實驗平臺）是針對于高校，科學研究所和企業(yè)實驗室，或者小批量生產(chǎn)的創(chuàng)新性企業(yè)而研發(fā)的創(chuàng)新型實驗平臺。針對用戶不同的需求，我們提供不同功能附件，在獲得常規(guī)性能的同時，擁有表面鍍膜（涂層），刻蝕，等離子化學反應，粉體等離子體處理等多種能力。

產(chǎn)品型號：PLUTO-MH
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2026-01-20
訪問量：3639

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小型等離子清洗機

實驗室小型等離子清洗機定制型等離子清洗機

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詳細介紹

品牌	PLUTOVAC

　　PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)是種新型清洗設備，采用了等離子技術，可以清洗各種物品。它具有環(huán)保節(jié)能等特點，受到了廣大消費者的青睞。其核心技術是等離子技術。等離子是一種高能態(tài)的物質(zhì)，可以在較低的溫度下產(chǎn)生*的清潔效果。該技術利用氣體分子間的碰撞和電子的激發(fā)來釋放能量，并以此來清洗物品表面的污垢。

　　PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)（實驗平臺）特點：

　　針對于對等離子體處理有嚴苛要求的場合中使用

　　等離子源才用頻率為13.56MHz射頻發(fā)生器，兼顧物理反應和化學反應

　　采用500W功率電源，自動阻抗匹配，高功率射頻發(fā)生器可應對各種實驗要求，保障高能量密度和高處理效率

　　高精度真空度控制，適應各種處理需求

　　316不銹鋼腔體(或者6061鋁合金)，全不銹鋼管路和連接件，適用各種氣體(包含腐蝕性氣體)

　　4.3寸工業(yè)級觸摸屏，軟件操作方便，多種參數(shù)設置和工藝組合處理模式

　　可增加多種配件，涂覆鍍膜，電極溫度控制，等離子體強度控制，等離子體化學反應等功能(如有特殊應用，請咨詢銷售人員)

　　根據(jù)用戶需求，提供對應等離子體處理方案和定制特殊用途設備

等離子清洗機

　　PLUTO-MH等離子清洗機/表面處理系統(tǒng)（實驗平臺）參數(shù):

　　真空腔規(guī)格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L

　　電極：兩個自適應平板電極，材質(zhì)T6061鋁合金(可提供特氟龍包覆無孔平板電極,適合需要雙面處理樣品)

　　電極尺寸：120*135mm 間距20~75mm 可調(diào)(可反轉(zhuǎn))

　　等離子體發(fā)生器：RF射頻發(fā)生器，頻率：13.56MHz

　　功率：0-500W連續(xù)可調(diào)，自動阻抗匹配,精度1W

　　氣體控制：針式氣體流量閥，標配1路氣體,全不銹鋼管道和連接件

　　控制方式：4.3寸工業(yè)控制觸摸屏

　　控制軟件功能：界面顯示實時工作狀態(tài)，

　　可顯示設置值與實際值，便于實時控制。

　　可自由設置等離子功率，通入氣體時間

　　多級操作權(quán)限,多種工藝參數(shù)組合控制,

　　全手動控制和全自動控制可選

　　保護裝置：一鍵急停保護按鈕

　　(如需其他功能,請咨詢銷售人員)

　　等離子清洗機的應用領域:

　　配置不同模塊，拓展不同應用

　　加熱電極模塊-溫度可控，可以加速等離子體處理速度和極大提高樣品處理的均勻性

　　沉積鍍膜模塊，改變表面特性：

　　沉積CF材料，樣品表面可以具有憎水的特性

　　沉積含苯材料，樣品表面起到絕緣防水的特性

　　沉積含有羥基的材料，提高樣品表面和其他材料的結(jié)合效果

　　感應耦合模塊-感應耦合等離子體裝置

　　氣體混合裝置

　　可以根據(jù)可以要求進行混氣設計

　　氣體純化和反應

　　氣體純化和使用等離子體與相關材料進行化學反應

等離子清洗機

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